本文標題："材料研究實驗用專業測量顯微鏡-上海光學儀器廠商"
發布者：yiyi ------ 分類: 站內動態 ------ 人瀏覽過 -----時間：2013-3-17 0:28:38
本實驗利用射頻磁控濺鍍(r.f. magnetron sputtering)系統來沉積氧化鋅(ZnO)薄膜于銅基板上，
(1)、離子束濺鍍(Ion Beam Sputtering IBS) (2)、無電鍍(Electroless Plating)兩種方式來制備于矽晶片上，濺鍍條件中固定射頻功率、工作壓力、
靶材與基板之距離，改變O2/Ar流量比與基板溫度以探討制程參數對所沉積的ZnO薄膜之結構與性質的影響。經由X-Ray、SEM、TEM、SIMS等儀器分析結果顯示，在ZnO/IBSCu/Ti/Si方面，ZnO薄膜的C軸優選取向(002)面之峰值強度隨著O2/Ar流量比與基板溫度的增加而增加，到達一佳條件后，反而下降，而此一佳條件為O2/Ar流量比為0.3、基板溫度300℃。
另外在ZnO/無電鍍Cu/Ti/Si方面，在基板不加熱時所沉積出之ZnO薄膜的(002)面峰值強度比ZnO/IBSCu/Ti/Si來得高，
因為以無電鍍方式所制備之銅基板具有更好的結晶性，而影響了ZnO薄膜的結晶方向性；而隨著基板溫度升高，ZnO薄膜的(002)面峰值強度卻反而下降，
主要是因為在此濺鍍條件之下，所沉積的ZnO薄膜具有鬚晶(whisker)的結構，致使ZnO薄膜表面不夠緻密、亦影響了結晶方向性。
此外，本實驗針對O2/Ar流量比與基板溫度的不同對薄膜的表面型態、半高寬、結晶方向性、晶粒大小與界面之擴散等影響，作了深入之探討。
后一篇文章：韌體基沃斯回火球墨鑄鐵實驗材料觀察顯微鏡 »
前一篇文章：« 粗糙度測量儀器-高倍率顯微鏡觀察放大試片研磨后表面結構
tags:金相,生物顯微鏡,精密儀器,
材料研究實驗用專業測量顯微鏡-上海光學儀器廠商,熒光顯微鏡現貨供應
本頁地址：http://m.hzruihang.cn/wz/550.html轉載注明
本站地址：http://m.hzruihang.cn/
http://www.xianweijing.org/
資訊中心：
延伸閱讀
- 使用電子顯微鏡觀察不同纖維含有率的試片-上光儀器(2013-3-16 1:24:18)
- 顯微鏡觀察生蓮藕淀粉顆粒約在10～80m(2013-3-15 10:12:43)
- 顯微鏡掃描觀察紅血細胞的表面的細微結構(2013-3-15 0:10:24)
- 電子顯微鏡下觀察硬度高的碳材料石墨薄片(2013-3-7 16:49:0)